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RIE反映离子刻蚀办事



 

办事规模:

我公司尝试室为微电子、光电子、通信、微机器、新资料、动力等范畴的客户供给器件研发和制作进程中的反映离子刻蚀办事,最大能够刻蚀8inch wafer。能够刻蚀和去除Si、SiO2、Si3N4、Poly-Si、光刻胶等资料。刻蚀速率快,分歧性好。