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March RIE 反映离子刻蚀机
RIE 各项异性&各向异性等离子刻蚀体系


March RIE-1701

Nordson MARCH's RIE-1701 等离子体系是设想用于进步前辈的刻蚀利用,如:生效阐发时去除夹层膜材,解封装和去除介电资料,氧化物、氮化物、聚酰亚胺、硅、金属、用于MEMS/LED/IC 器件出产的III-V 和 II-VI 资料的刻蚀,环氧去除,光刻胶剥除和预处置。

松散、桌面型设置装备摆设、承担的起的反映离子刻蚀(RIE) 体系。

Nordson MARCH 的 RIE-1701 各向异性反映离子刻蚀等离子体系是完整自包罗的,仅须要较小的桌面空间。等离子刻蚀底盘,也一样是作为一个集成的宁静屏障罩,外部包含了等离子腔体、节制电子、13.56MHz的射频产生器,和主动调谐收集(仅仅是真空泵是位于体系以外的)。经由过程一个互锁门或轻易撤除的面板可以或许便利的停止保护。

等离子腔体是由高品质阳极化铝和优胜经久性的陶瓷治具构成的。等离子腔体可以或许设置装备摆设6"或8"电源电极来顺应普遍的晶圆尺寸、IC封装和别的元件。

高机能等离子刻蚀用于生效阐发或MEMs、LED器件出产。

等离子刻蚀可以或许顺应普遍的工艺气体,包含:氩气、氧气、氢气/夹杂气体、氦气、CF4 和 SF6。规范设置装备摆设为2路品质流量节制器,用于杰出的气体节制,还具备两路可选气体(一共4路)。

RIE 各项异性&各向异性等离子刻蚀体系的特色和上风

• 触摸屏节制,图形用户界面供给及时工艺数据和反应

• 13.56 MHz 射频发射器和主动调谐收集供给优异的工艺反复性

• 温度节制回路集成在等离子腔体内,使得切确节制成为能够

• 可选的涡轮份子泵组件和蝶形阀压力节制